Rasterelektronenmikroskop JEOL JSM-IT500LA
Förderkennzeichen: 49IZ180047
Prüfsystem zur Partikelanalyse und erweiterten Mikrostrukturanalyse über Elektronenmikroskopie (JEOL)
Das Rasterelektronenmikroskop JSM-IT500LA kann eine Beschleunigungsspannung von 0,3 bis 30 kV aufbringen und dabei eine Vergrößerung von 5- bis 300.000-fach abdecken. Mit seiner SE-Auflösung von 3 nm (bei 30 kV) ist es in der Lage kleinste Details zu detektieren.
Durch die Möglichkeit, Arbeiten im Niedervakuumbereich bis 650 Pa durchzuführen, können auch nichtleitfähige Materialien wie z. B. Keramiken untersucht werden. Der Rückstreuelektronendetektor verfügt über eine Super-Shadow Abbildungsmethode für besonders plastische Bilder im Hoch und Niedervakuum. Der angeschlossene peltierelementgekühlte SD30 EDX-Detektor kann Elemente von Beryllium bis Uran detektieren. Abgerundet wird die Ausstattung durch einen Partikeldispergierer und der integrierten Partikelanalyse, die es u.a. ermöglichen, Pulver für das additive Laserstrahlschmelzen zu untersuchen.
Durch die Möglichkeit, Arbeiten im Niedervakuumbereich bis 650 Pa durchzuführen, können auch nichtleitfähige Materialien wie z. B. Keramiken untersucht werden. Der Rückstreuelektronendetektor verfügt über eine Super-Shadow Abbildungsmethode für besonders plastische Bilder im Hoch und Niedervakuum. Der angeschlossene peltierelementgekühlte SD30 EDX-Detektor kann Elemente von Beryllium bis Uran detektieren. Abgerundet wird die Ausstattung durch einen Partikeldispergierer und der integrierten Partikelanalyse, die es u.a. ermöglichen, Pulver für das additive Laserstrahlschmelzen zu untersuchen.
- Beschleunigungsspannung: 0,3 kV bis 30 kV
- Vergrößerung: 5 bis 300.000-fach
- Niedervakuum: bis 650 PA
- EDX: 30 mm² aktive Detektorfläche; Elementbereich Be bis U
- Integrierte Partikelanalyse
- Partikeldispergierer