Plasmaschweißsystem

Anlagen zur Untersuchung von Plasmaschweißprozessen

Plasmaschweißstromquelle PSI 400 (Kjellberg)

Schweißstromquelle für das Plasma-Pulverauftragschweißen mit einem Pulverförderer. Die Besonderheit der Anlage ist, dass sie mit einem Pilotstrom bis 100 A arbeitet. Dadurch wird die Bearbeitung von elektrisch nichtleitenden Materialien ermöglicht.

• Pilotstrom bis 100 A
• Pulsbetrieb bis 50 Hz
• Intervallschweißoption
• Volumenstrom Plasma-/Schutz-/Pulvergas: 0,3 bis 15 l/min
• Stromstärke: 4 bis 400 A

Plasmaschneidanlage HiFocus 161i neo (Kjellberg)

Anlage für das Präzisions-Plasmaschneiden. Die Anlage bietet Möglichkeiten zum Schneiden und Markieren im dünnen und mittleren Blechdickenbereich mit Plasma und erlaubt mit dem Pilotlichtbogen auch die Bearbeitung nichtmetallischer Werkstoffe.

• Schneidbereich: 0,5 bis 50 mm
• Schneidstrom: 10-160 A
• Markierstrom: 5-25 A
• Einstechen: bis 30 mm
• Plasmabrenner: PerCut201/211

Pulverförderer PF 2/2 LC (GTV)

Pulverförderer mit zwei 1,5 l Pulvertöpfen zur Förderung von unterschiedlichen Materialien zum Laserauftragschweißen.

• Pulvertopf-Volumen: 1,5 l
• Max. Pulvertemperatur: 50 °C
• Füllstandsüberwachung

Temperofen (Nabertherm)

Temperofen zum Kühlen von Glasbauteilen. Bei der Bearbeitung von Glasbauteilen entstehen thermische Spannungen im Material, die mit diesem Ofen und einer angepassten Temperaturkurve eliminiert werden können.

• Erwärmung bis min. 1.250 °C
• Ofenraum: 300 x 300 x 400 mm³

Stereomikroskop Stemi 508 (ZEISS AG)

Mikroskop zur Begutachtung bearbeiteter Bauteile

• Zoombereich 8:1
• Vergrößerung: 2x bis 250x